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真空熔煉爐

真空熔煉爐

簡(jiǎn)要描述： 真空熔煉爐用途：適用于電子陶瓷與高溫結(jié)構(gòu)陶瓷的燒結(jié)、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結(jié)、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，是科研單位、高等院校、工礦企業(yè)理想的實(shí)驗(yàn)和生產(chǎn)設(shè)備

  • 生產(chǎn)地址：上海
  • 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間：2024-10-16
  • 訪  問(wèn)  量：3446
詳細(xì)介紹

 

真空熔煉爐
GR.VMF系列真空熔煉爐詳細(xì)介紹
GR.VMF系列，具有*的性能設(shè)計(jì)，集多項(xiàng)于一身，安全性，可靠性，實(shí)用性均達(dá)*效果。
小型廣泛應(yīng)用于大專院校及科研單位，在真空或保護(hù)氣氛條件下對(duì)金屬材料（如不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等）的熔煉處理，也可進(jìn)行合金鋼的真空精煉處理及精密鑄造。
一、技術(shù)參數(shù)
1．設(shè)備名稱：真空感應(yīng)熔煉爐
2．冷態(tài)極限真空度：5×10﹣3Pa
3．額定溫度：1700℃
4. 額定功率：15KW
5. ;坩堝容量：100g～500g（熔液）
6．壓升率：≤2Pa／h
7．中頻電源：IGBT
二、結(jié)構(gòu)說(shuō)明
本產(chǎn)品由爐蓋、爐體、回轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、澆注裝置、真空系統(tǒng)及高頻電源控制系統(tǒng)等組成。
1、爐體：為全不銹鋼結(jié)構(gòu)。爐殼采用雙層水冷結(jié)構(gòu)，爐殼溫度不超過(guò)50℃。爐蓋打開(kāi)方式為手動(dòng)，并加有鎖緊裝置，爐蓋上設(shè)有觀察孔及屏蔽等。
2、回轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)：與爐體用法蘭連接，感應(yīng)線圈由銅管繞成螺旋形從爐體引出，采用威爾遜密封，密封可靠。
3、澆注裝置：在坩堝旁邊從爐體內(nèi)生一平臺(tái)，上面放置錠模，料熔煉好以后轉(zhuǎn)動(dòng)手柄，將坩堝內(nèi)的料傾倒在錠模內(nèi)。
4、真空系統(tǒng)：采用二級(jí)泵，油擴(kuò)散泵（或分子泵）與直聯(lián)泵。真空機(jī)組上設(shè)有放氣閥及充氣閥。
5、電源：電源采用IGBT進(jìn)口功率器件，更加集成化小型化，有效輸出功率達(dá)到90%以上，省電節(jié)能，比傳統(tǒng)可控硅中頻節(jié)能60%！，電氣系統(tǒng)設(shè)有過(guò)流、過(guò)壓返饋及保護(hù)電路。

 

 

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